EUV掩膜空白这场纠纷

通过马克LaPedus11月- 15,2018 -评论:2

在斜坡的极端紫外线(EUV)光刻技术在市场中,供应商EUV掩模空白是扩大生产。和一个新的player-Applied材料进入市场。AGC和球兰,是主要的两家供应商EUV掩模的空白,增加产能为这些关键组件用于EUV光掩模。面具空白作为衬底的photomas……»阅读更多

有更多的EUV比源力量

通过凯瑟琳德比郡9月- 20,2012 -评论:0

凯瑟琳。德比郡有一段时间了,大多数行业的报道EUV光刻光源集中。正如我的同事们指出,权力来源的局限性主要约束不仅潜在EUV-based设备制造业,但即使在sub-20nm设备和工艺技术的发展。当吞吐量在每小时四个晶圆的邻居,李尔……»阅读更多

通过凯瑟琳德比郡——7月25日,2011 -评论:0

到处都是o形环密封在一个典型的半导体晶圆厂。任何一段真空设备使用其中几个密封开口,流程的组件组合在一起。然而,正如无处不在,大多数过程工程师非常不考虑他们。他们购买指定的密封设备供应商,与最具吸引力的价格从供应商,几乎l…»阅读更多