标签:imec

协助层:EUV光刻的无名英雄
通过凯瑟琳德比郡4月- 20,2023 -评论:0

最先进光刻的讨论集中在三个元素——曝光系统,光掩模,光阻,但这只是挑战的一部分。成功转移模式的光掩模的物理结构晶片还取决于各种电影合作,包括下层、开发人员,和各种表面处理。事实上……»阅读更多

Nanoimprint终于找到立足点
通过格雷戈里·哈雷4月- 20,2023 -评论:0

Nanoimprint光刻,几十年来已经落后于传统光学光刻技术,正成为首选的技术快速发展光子学和生物芯片市场。首次在1990年代中期,nanoimprint光刻(NIL)一直被视为一个低成本替代传统光学光刻技术。即使在今天,零潜在能力啊…»阅读更多

芯片产业的技术论文摘要:4月18日
通过琳达·克里斯坦森——4月18日,2023 -评论:0

新技术论文最近添加到半导体工程图书馆:[表id = 93 /]如果你有研究论文你努力推广,我们将检查它们是否适合我们的全球观众。至少,论文需要研究和记录,与半导体相关的生态系统,和自由市场的偏见。没有成本involv……»阅读更多

周评:半导体制造、测试
通过凯伦·海曼4月- 14,2023 -评论:0

美国参议院多数党领袖查克•舒默(charles Schumer)说,他努力建立人工智能解决国家安全规定和教育问题,据路透社报道。本质上获得成功的“时间就是这种强大的新技术,以防止潜在的广泛损害社会和国家安全,而是把它积极推进使用强,两党……»阅读更多

设计师需要了解棉酚
通过布莱恩•贝利4月- 13,2023 -评论:0

而只有12岁,finFETs达到线的结束。他们正在取代gate-all-around(棉酚),从3 nm[1],预计将产生重大影响芯片是如何设计的。砷化镓今天有两个主要的种——nanosheets和纳米线。对nanosheets有很多困惑,nanosheets和纳米线之间的区别。行业仍…»阅读更多

数字神经形态处理器:Algorithm-HW合作设计(imec /鲁汶KU)
通过技术论文链接- 11年4月,2023 -评论:0

技术论文题为“打开盒子的数字神经形态处理器:对有效algorithm-hardware合作设计”研究人员发表在imec KU鲁汶。“在这项工作中,我们打开黑盒子的数字神经形态处理器算法设计者给神经元处理指令集和塞内加的详细能耗神经形态架构师……»阅读更多

挑战成长为CD-SEMs 5 nm和超越
通过格雷戈里·哈雷- 11年4月,2023 -评论:1

CD-SEM,主力计量工具使用的晶圆厂过程控制,正面临巨大的挑战在5 nm和下面。传统上,CD-SEM成像依赖有限数量的图像帧平均,这是必要的,保持速度和吞吐量减少样本电子束本身造成的损失。尺寸变小,这些限制导致更高水平的n…»阅读更多

研究部分:4月4日
通过杰西·艾伦- 04年4月,2023 -评论:0

Wet-like等离子体蚀刻名古屋大学的研究人员和日立公司开发出一种新的蚀刻方法称为Wet-like等离子体刻蚀相结合的选择性湿蚀刻干蚀刻的可控性。研究人员说,这项技术将有可能腐蚀金属碳化物等复杂的结构组成(Ti)钛和铝(Al),如抽搐或TiAlC, wh……»阅读更多

周评:设计,低功耗
通过苏珊兰博- 3月31日,2023 -评论:0

Synopsys对此推出了一个叫做Synopsys对此AI-driven设计套件。本周ai Synopsys对此用户组会议,它可以减少时间更好的结果在设计流程中的多个点。公司指出,新技术采用强化学习,它弥补了相对较小的数据集,允许工程师更容易与这些数据在任何时候,和ch……»阅读更多

芯片产业的技术论文摘要:3月28日
通过琳达·克里斯坦森- 3月28日,2023 -评论:0

新技术论文最近添加到半导体工程图书馆:[表id = 89 /]如果你有研究论文你努力推广,我们将检查它们是否适合我们的全球观众。至少,论文需要研究和记录,与半导体相关的生态系统,和自由市场的偏见。为我们没有成本p…»阅读更多

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