马朗戈尼有效,在一个双波纹Via-First方法


的主要挑战之一双波纹(DD) via-first过程的控制临界尺寸(CDs)光刻的战壕。光致抗蚀剂(PhR)厚度呈现变化通过数组的开放区域,导致CDs的变化:摆动的效果。DD via-first的整平过程报告。一个双层的解决方案用于发展……»阅读更多

相关研究的实际温度曲线和在线计量测量Within-Wafer均匀性改善和提高收益率的晶片边缘


作者:方方(a),阿洛克Vaid (a),爱丽娜Vinslava (a),理查德Casselberry (a), Shailendra Mishra (a), Dhairya武断的话(a),最后Timoney (a), Dinh楚(b),坎迪斯波特(b), Da歌曲(b),周任(b)关键:(一)GLOBALFOUNDRIES, 400石头打破扩展,马耳他,纽约12020;(b) KLA-Tencor公司,一个技术驱动,苗必达,CA 95035文摘与中欧在新的进步…»阅读更多

Baidu