一种可伸缩的解决方案,多余的光刻胶摆动的效果。
的主要挑战之一双波纹(DD) via-first过程的控制临界尺寸(CDs)光刻的战壕。光致抗蚀剂(PhR)厚度呈现变化通过数组的开放区域,导致CDs的变化:摆动的效果。
DD via-first的整平过程报告。一个双层的解决方案是用于演示的完整填写深深铭刻在多层结构和先进的整平技术。第一个材料涂层衬底展品马朗戈尼效应;第二个材料拥有相同的第一个的理化性能,除了马朗戈尼属性。
马朗戈尼效应第一涂层产生一种厚膜通过数组的开放区域,导致负膜厚度(英尺)的偏见。然后,执行与第二涂层材料,然后让它整平性能标准,积极的厚度偏差发生。添加这两个涂料的厚度偏差intra-die和复杂的地形,从0到30 nm整个晶片。此外,这两个整平材料的类似的物理化学性质使得这双层系统视为一个单一的均匀层蚀刻过程而言。
的角度KrF光刻,双层提供平面衬底与PhR并允许涂intra-die摇摆的强还原效果,提供一种可伸缩的解决方案。
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作者:
诉达尔'Asta,1e . Litterio1n . Corneo1j . Koza2j . Jeauneau3p·坎图1
1意法半导体(意大利)
2布鲁尔科技公司(美国)
3布鲁尔科技有限公司(法国)
版权©(2020)Photo-Optical仪表工程师学会(学报)。
诉达尔'Asta, e . Litterio n . Corneo j . Koza j . Jeauneau和p·坎图”马朗戈尼有效,在对双波纹via-first方法:一种可伸缩的解决方案到多余的光刻胶摇摆效应”,Proc。相比11326年,进步模式材料和流程37章,1132622(2020年3月23日);https://doi.org/10.1117/12.2551864
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