期待相比


今年的前夕有先进光刻+模式会议上,我看了看IEEE设备和系统路线图的光刻技术部分。尤其引人注目的EUV光刻技术的出现,已迅速成为先进逻辑的关键。High-NA工具以支持更小的尺寸。不过,在近期的关键挑战不是……»阅读更多

Baidu