标签:AEI

覆盖如何与EUV图案保持同步
通过劳拉·彼得斯- 2022年8月9日-评论

覆盖计量工具提高精度，同时提供可接受的吞吐量，解决日益复杂的设备的竞争需求。在一场永无止境的竞争中，领先设备的产品覆盖公差正在迅速缩小。对于3nm一代(22nm金属间距)器件来说，它们都在个位数纳米范围内。新的覆盖目标，机器学习，和im…»阅读更多

EUV抗蚀剂厚度对<30nm CD局部临界尺寸均匀性的影响
通过Coventor- 2020年10月21日-评论:0

本文通过显影后检验(ADI)和蚀刻后检验(AEI)的局部临界尺寸均匀性(LCDU)测试，描述了极紫外(EUV)抗蚀剂厚度对<30 nm的影响。对于相同的刻蚀后CD靶，将抗蚀膜厚度从40 nm增加到60 nm有助于降低CD变异性。这项工作是通过虚拟制造使用covenor…»阅读更多

EUV耐蚀剂厚度对过孔图案均匀性的影响
通过本杰明·文森特- 2020年3月30日-评论:0

在高级节点上，通过模式化需要非常低的临界维(CD)值，通常低于30nm。控制这些尺寸是一个严峻的挑战，因为在光刻和蚀刻过程中有许多固有的变化来源。covenor人员，与我们来自ASML和imec的同事一起，最近研究了极紫外光刻(EU…»阅读更多

本周回顾:物联网
通过杰夫Dorsch- 2017年8月11日-评论:0

新加坡Connectivity M1有限公司与诺基亚合作，推出了一个全国范围的窄带物联网网络，目标是资产跟踪、环境监测、车队管理和建筑物智能能源管理等应用。M1希望通过新的NB-IoT网络促进新加坡的物联网生态系统。并购杜邦已同意收购粒状，数码产品供应商…»阅读更多

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