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光刻建模:数据增强框架


一篇题为“用于可制造芯片设计的基于对抗性主动采样的数据增强框架”的新技术论文由德克萨斯大学奥斯汀分校、英伟达和加州理工学院的研究人员发表。摘要:“光刻建模是芯片设计中的一个关键问题,以确保芯片设计掩模的可制造性。这需要严格的模拟……»阅读更多

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