高na EUV技术面临新挑战


据估计,高数值孔径EUV曝光系统将在2025年问世。虽然与极紫外光刻技术的引入相比,高na光刻技术的变化没有那么深刻,但它仍然给光抗蚀剂和相关材料带来了一系列新的挑战。数值孔径越大,光子撞击晶圆的角度越小。这需要更薄的p…»阅读更多

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