下一个EUV挑战:薄膜


极端紫外线(EUV)光刻还不准备大批量生产,但是技术至少是朝着正确的方向前进。的[gettech id = " 31045 "评论=“EUV”)光源和抵制取得明显进展,尽管仍有挑战的领域。然后,EUV掩模的基础设施,也有一些差距。“当EUV我…»阅读更多

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