设计师需要了解棉酚


而只有12岁,finFETs达到线的结束。他们正在取代gate-all-around(棉酚),从3 nm[1],预计将产生重大影响芯片是如何设计的。砷化镓今天有两个主要的种——nanosheets和纳米线。对nanosheets有很多困惑,nanosheets和纳米线之间的区别。行业仍…»阅读更多

建模波动来源对棉酚的电特性的影响如果使用ANN-Based毫升NS mosfet


研究者从国家杨明交通大学(台湾)发表了一篇技术论文题为“机器学习方法建模的内在参数波动Gate-All-Around Si Nanosheet mosfet。”"This study has comprehensively analyzed the potential of the ANN-based ML strategy in modeling the effect of fluctuation sources on electrical characteristics of GAA Si NS MOSF...»阅读更多

目标:记忆力下降50%


内存消耗约50%或更多的地区,约有50%的一个SoC的力量,这些百分比可能会增加。问题是静态随机存取存储器(SRAM)没有按照摩尔定律,这不会改变。此外,许多设备没有追逐最新的节点和力量变得越来越关注,业界必须找到方法…»阅读更多

在22纳米铸造厂准备战斗


之后引入新的22纳米工艺在过去的一两年,铸造厂是准备生产技术准备摊牌。GlobalFoundries,英特尔,台积电和联华电子正在开发和/或扩大他们的努力在22纳米迹象这个节点可以产生大量的业务应用程序(如汽车、物联网、无线。但铸造客户面临一些艰难choic……»阅读更多

22纳米工艺


杰米•谢弗产品线管理高级主管GlobalFoundries,谈到如何FD-SOI相比之下大部分技术,未来将在那里使用和为什么,叠加选项。https://youtu.be/2i7GJRxcNRs»阅读更多

22纳米工艺的战争开始了


铸造许多客户在上面的28 nm节点和开发新的芯片和正在探索的想法迁移到16 nm / 14 nm。但在大多数情况下,这些公司都卡住了,因为他们买不起高级节点的集成电路设计成本飙升。寻求满足潜在的市场缺口,[getentity id = " 22819 "评论=“GlobalFoundries”], [getentity id = " 22846 " e_name = "……»阅读更多

大部分CMOS与FD-SOI


芯片的前沿市场越来越多的分歧是否搬到finFETs还是呆在28 nm使用不同的材料,甚至可能先进包装。决定采取哪种方法常常归结为表现,权力,形式因素,成本,和个人的成熟技术。所有这些可以通过市场变化,通过供应商和过程…»阅读更多

在压力下Fabless-Foundry模型


由马克LaPedus半导体路线图曾经是一个光滑的和直接的路径,但芯片制造商面临坎坷的和具有挑战性的骑到20 nm节点迁移。看到地平线上的挑战是3 d堆叠的出现,450毫米晶圆厂,新晶体管结构,多模式和极端紫外线的可疑的可用性(EUV)光刻……»阅读更多

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