中文 英语

高na EUV技术面临新挑战


据估计,高数值孔径EUV曝光系统将在2025年问世。虽然与极紫外光刻技术的引入相比,高na光刻技术的变化没有那么深刻,但它仍然给光抗蚀剂和相关材料带来了一系列新的挑战。数值孔径越大,光子撞击晶圆的角度越小。这需要更薄的p…»阅读更多

消色差x射线透镜


衍射和折射光学元件已经成为大多数高分辨率x射线显微镜的组成部分。然而,它们有固有的色差。迄今为止,这限制了它们在窄带宽辐射下的使用,本质上限制了这种高分辨率x射线显微镜在高亮度同步加速器源上的使用。类似于可见光光学,一种方法…»阅读更多

Baidu