标签:八倍的模式

在光刻和面具
通过马克LaPedus- 05年4月,2017 -评论:3

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多模式问题7海里,5海里
通过埃德·斯珀林11月- 28,2016 -评论:13

继续依靠193海里浸没式光刻与多个模式变得更加困难,7和5 nm。在各种分辨率增强技术的帮助下,光学光刻用深紫外准分子激光是主力模式技术在工厂自1980年代初。它是如此紧密地联系在一起的延续(getkc id = " 74 "评论= "莫…»阅读更多

下一代光刻技术在哪里?
通过马克LaPedus- 3月31日,2016 -评论:2

半导体工程坐下来讨论光刻和格雷格•麦金太尔光掩模技术和先进模式部门主任(getentity id = " 22217 "评论=“Imec”);哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管[getentity id = " 22819 "评论=“GlobalFoundries”);Uday Mitra策略和营销主管副总裁兼布鲁里溃疡腐蚀……»阅读更多

下一代光刻技术在哪里?
通过马克LaPedus——3月17日,2016 -评论:4

半导体工程坐下来讨论光刻和格雷格•麦金太尔光掩模技术和先进模式部门主任(getentity id = " 22217 "评论=“Imec”);哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管[getentity id = " 22819 "评论=“GlobalFoundries”);Uday Mitra策略和营销主管副总裁兼布鲁里溃疡腐蚀……»阅读更多

更多的问题之前
通过埃德·斯珀林8月- 14,2014 -评论:3

半导体工程Lars Liebmann坐下来讨论未来的扩展问题,IBM研究员;董事总经理亚当品牌晶体管技术应用材料;卡里姆而在高通公司工程副总裁;和斯班纳,一个研究员在GlobalFoundries先进技术架构。SE:我们开始听到谈论八倍的模式。我们……»阅读更多

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