标签:天然气凝析液

反映在2016年
通过布莱恩•贝利12月- 22,2016 -评论:0

任何人都可以做一个预测,有时越古怪越会注意到。但在今年年底有些人成功而另一些人则可能是路要走。许多人只是基于当前轨迹的趋势进行预测,而另一些则寻找潜在的不连续性也是任重而道远。半导体工程检查预测了……»阅读更多

为什么EUV是如此困难
通过马克LaPedus11月17日,2016 -评论:23

多年来,极端紫外线(EUV)光刻是一种很有前途的技术,应该帮助启用高级芯片扩展。但经过多年的研发、EUV还没有在生产,尽管主要支持产业,巨大的资源和数十亿美元的资金。最近,然而,[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "]光刻pos似乎指日可待…»阅读更多

7纳米光刻技术的选择
通过马克LaPedus- 07年3月,2016 -评论:2

芯片制造商正在酝酿他们16 nm / 14 nm逻辑流程,预计10 nm进入早期生产今年晚些时候。除非在光刻技术取得重大突破,芯片制造商正在使用今天的193海里浸泡和多个模式16/14nm和10纳米。现在,芯片制造商关注7纳米光刻技术选项。为此,他们希望利用两种技术的结合…»阅读更多

寻找稀土
通过马克LaPedus- 4月17日,2014 -评论:2

半导体产业是总想着几个和昂贵的技术。行业的一个设备,是看着新的芯片架构,如3 d NAND finFETs和堆死。在制造业方面,有450毫米技术,下一代光刻技术(天然气凝析液)和新材料。这只是冰山的一角。另一种技术值得…»阅读更多

数十亿的投资
通过马克LaPedus- 4月17日,2014 -评论:4

多年来,新一代(getkc id = " 80 " kc_name =“蚀刻”](天然气凝析液)遭受各种挫折和延迟。但直到最近,该行业基本上耸耸肩肩,对天然气凝析液的延迟表示相对较少的焦虑。毕竟,光学光刻技术所做的工作在工厂和天然气凝析液最终会实现。然而,今天,心情是不同的。事实上,th……»阅读更多

EUV到达一个十字路口
通过马克LaPedus3月- 20,2014 -评论:3

[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "] (EUV) [getkc id = " 80 "评论=“蚀刻”)是在一个十字路口。2014年代表技术的关键一年。事实上,它可能对EUV回答一个紧迫的问题:工作或不吗?现在还为时过早,决心,但比以往有更多的不确定性oft-delayed技术。最初的目的是为65 nm节点…»阅读更多

等待下一代光刻技术
通过马克LaPedus1月23日,2014 -评论:2

近30年前,光学光刻应该撞墙魔法1微米的障碍,促使新模式的必要性电子束直写和x射线光刻等技术。然而,当时行业能够推动光学光刻卷芯片生产1微米的节点。反过来,这有效地杀死了直写e -…»阅读更多

平路线图仍然是多云的
通过马克LaPedus- 9月19日,2013 -评论:0

由马克LaPedus一段时间,光刻技术路线图多云。光学光刻技术已经比预期的进一步扩展。与各种下一代光刻技术(天然气凝析液)和延迟技术行业不得不重写在多个场合路线图。今天,在光刻有比以往更多的不确定性。例如,直到最近,尖端逻辑chipma……»阅读更多

Design-For-DSA行业开始组装
通过马克LaPedus——4月18日,2013 -评论:0

由马克LaPedus行业积极寻求指导自组装(DSA)作为一种替代模式为未来的芯片设计技术。DSA,使细球通过使用嵌段共聚物,今天在研发试点线阶段。工厂的工具、流程和材料基本准备好了,但是仍然有一些挑战将技术届…»阅读更多

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu