标签:nanoimprint光刻

回顾基本用含氟化合物的光刻图案和半导体处理
通过技术论文链接- 06年4月,2022 -评论:0

由康奈尔大学的研究人员新学术论文。抽象”我们识别和描述类别内的含氟化合物用于生产先进半导体光刻图案生产流程。讨论的主题包括每和氟烷基物质(pfa)材料及其必要的属性用于成功的半导体制造……»阅读更多

国际设备和系统路线图光刻技术路线图
通过技术论文链接11月19日,2021 -评论:0

文摘:“背景:计划提高半导体芯片的性能历史上推动改善光刻这预计将继续在未来。国际设备和系统路线图可以帮助行业路线图规划未来。目的:2021年的光刻技术路线图显示了需求,可能的选项,和挑战未来15年。脸上……»阅读更多

下一代光刻技术选择设备
通过马克LaPedus——4月18日,2019 -评论:2

芯片制造商增加极端紫外线(EUV)高级逻辑7纳米光刻技术和/或5海里,但EUV光刻并不是唯一选择在桌子上。一段时间,业界一直致力于各种各样的其他下一代光刻技术,包括新版本的EUV。每种技术都是不同的,针对不同的应用程序。有些人今天,w……»阅读更多

覆盖控制Nanoimprint光刻
通过技术论文链接- 12月31日,2017 -评论:0

文摘:Nanoimprint光刻(NIL)是一种很有前途的技术和更低的成本比其他fine-patterning光刻技术,如EUV或与多模式浸。零有潜力的“单身”模式为两线模式和孔模式的半场不到20海里。NIL半导体制造工具采用模- by-die对齐体制…»阅读更多

覆盖控制Nanoimprint光刻
通过技术论文链接- 12月31日,2017 -评论:0

文摘:Nanoimprint光刻(NIL)是一种很有前途的技术和更低的成本比其他fine-patterning光刻技术,如EUV或与多模式浸。零有潜力的“单身”模式为两线模式和孔模式的半场不到20海里。NIL半导体制造业雇佣死- by-die对齐系统工具……»阅读更多

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