最晚完成日期快流模式匹配和机器学习可以更快地交付高收益的设计


Wael ElManhawy和乔关颖珊光刻(平)热点是创建一个缺陷在晶片制造的组合系统的过程中变异和分辨率增强技术(RET)的限制。平热点通常代表严重的收益率批评者,所以之前检测和消除潜在的平热点制造业实现com至关重要……»阅读更多

模式匹配在测试和收益分析


乔纳森Muirhead和盖尔·艾德这已经不是什么秘密,一个成功的收益率斜坡直接影响集成电路(IC)产品成本和上市时间。工具和技术,帮助企业增加体积速度,同时减少过程和设计变化,可以区别损益在竞争激烈的市场中分销出去。虽然模式匹配技术已经由于……»阅读更多

似曾相识的CMP建模?


设计制造的一种定义(DFM)是提供知识的影响制造过程设计布局的设计师,所以他们可以使用这些信息来提高健壮性、可靠性、或收益率tapeout之前他们的设计。从本质上讲,DFM设计师采取所有权的完整的“生命周期”的设计,和超出所需的德西……»阅读更多

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