与High-NA EUV新挑战的出现


高数值孔径EUV曝光系统是未来——只要2025据估计。虽然肯定深刻变化比极端的紫外线光刻技术的引入,high-NA光刻仍为光阻带来一系列新的挑战和相关材料。高数值孔径,光子晶片浅角。需要稀释剂p…»阅读更多

创业融资:2021年1月


超过800美元的资金去公司开发自动驾驶技术,从self-driving-focused人工智能芯片到完整的车辆和售后市场的解决方案。本月几个电动汽车制造商脱颖而出,与投资者将大型美国Rivian和中国Leapmotor背后支持。和电动汽车来了很多电池:资金去几个创业公司尝试新的垫……»阅读更多

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