技术讨论:逆光刻


d2的狮子座庞与半导体光刻技术工程,逆光刻,光掩模,问题在哪里,和需要做什么前进。[youtube视频= mn8JWaP8Z68]»阅读更多

光学光刻技术,取两个


由马克LaPedus业内公开的秘密。极端紫外线(EUV)光刻错过的初始阶段10 nm逻辑和1 xnm NAND闪存节点。芯片制造商希望插入EUV 10 nm的后期或7海里,但供应商并不指望EUV在短期内和准备他们的后备计划。除非一个突破与EUV或其他技术,集成电路……»阅读更多

新问题的结果


埃德·斯珀林签收一直是一个挑战在SoC设计流程的每个阶段。无论多么好的设计外观,或一个原型是如何工作的,还是有问题,可以在任何阶段出现的设计一直流入制造工程团队摇头离开。即使在主流流程节点,直接是常见的。在高级节点部件……»阅读更多

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