填满/切自对准Double-Patterning


大卫•阿伯克龙比康复阿里艾哈迈德•Hamed-Fatehy和Shetha Nolke自对准双模式(SADP)是一种替代传统litho-etch-litho-etch double-patterning过程(乐乐)方法用于生产最先进的节点。这两种方法之间的主要区别是,在乐乐,布局分为两个面具,第二个面具是与职责……»阅读更多

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