标签:佳能纳米技术

Nanoimprint终于找到立足点
通过格雷戈里·哈雷4月- 20,2023 -评论:1

Nanoimprint光刻,几十年来已经落后于传统光学光刻技术,正成为首选的技术快速发展光子学和生物芯片市场。首次在1990年代中期,nanoimprint光刻(NIL)一直被视为一个低成本替代传统光学光刻技术。即使在今天,零潜在能力啊…»阅读更多

覆盖控制Nanoimprint光刻
通过技术论文链接- 12月31日,2017 -评论:0

文摘:Nanoimprint光刻(NIL)是一种很有前途的技术和更低的成本比其他fine-patterning光刻技术,如EUV或与多模式浸。零有潜力的“单身”模式为两线模式和孔模式的半场不到20海里。NIL半导体制造业雇佣死- by-die对齐系统工具……»阅读更多

多个光刻选项仍然在玩
通过波拉多伊- 03年8月,2015 -评论:1

吞吐量和正常运行时间的EUV,覆盖193海里浸没式光刻技术的准确性,继续稳步改善,虽然也没有准备好10 nm生产,根据西方扬声器在半导体。ASML主任迈克Lercel、产品营销、报道几个EUV工具网站实现了70%的正常运行时间超过一个星期,和一个客户站点做了四个多…»阅读更多

下一代光刻技术怎么了?
通过马克LaPedus- 03年9月,2014 -评论:2

芯片制造商继续3月工艺曲线。使用今天的光学光刻和多个模式,半导体行业扩展其尖端设备远远超出了曾被认为是可能的。问题是这个行业可以扩展多远193海里浸泡(getkc id = " 80 "评论=“蚀刻”)和多个模式之前,这些技术成为t…»阅读更多

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