衰减相移面具(attPSM) EUV(弗劳恩霍夫IISB)


新的研究论文题为“衰减相移面具:外卡极端紫外线光刻分辨率增强吗?,“从研究员Fraunhofer-Institut毛皮Integrierte Systeme和Bauelementetechnologie IISB(德国)。目标:“我们回顾发表研究衰减相移面具(attPSM) EUV特别强调建模和基本的理解……»阅读更多

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