裁剪空间熵多光谱ptychography EUV聚焦光束

通过技术论文链接- 7月27日,2021 -评论:0

先进的纳米研究中心(ARCNL)和sccp阿姆斯特丹已经开发出一种新的衍射光学元素向更广泛使用的EUV显微镜铺平了道路。抽象的“衍射光学可以用来准确地控制光的波阵面时,即使在屈光组件(如镜头的情况下不可用。例如,c…»阅读更多

制造业:7月20日

通过马克LaPedus7月- 20,2021 -评论:0

干扰EUV光刻大学开发了一个独立的干涉极端紫外线(EUV)光刻工具用于研发应用。这个系统,称为埃米尔(EUV Micro-interference光刻设备),主要用于加速EUV光阻和相关的晶片的发展过程。系统是不同的比ASML EUV光刻扫描仪,这是……»阅读更多

通过凯瑟琳德比郡- 3月21日,2019 -评论:5

EUV已经到来。经过几十年的发展和数十亿美元的投资,EUV光刻占据中心舞台在世界领先的晶圆厂。20多年ASML极端紫外线光刻技术研究项目开始后,和近十年后首次接触预生产工具,公司预计在2019年交付30 EUV曝光系统。这几乎是房子……»阅读更多