研究人员开发一个“直接chemisorption-assisted nanotransfer技术并结合metal-assisted化学腐蚀,使超统一的硅纳米线的形成到6英寸的圆片规模。”
新的学术论文从南洋理工大学、韩国机械与材料研究所和西南交通大学。
文摘
“Nanotransfer印刷技术吸引了大量关注由于其出色的简单,成本效益,和高吞吐量。然而,传统的方法通过化学介质阻碍有效制造大面积均匀性和快速发展的电子和光子设备。在此,我们报告一个直接chemisorption-assisted nanotransfer印刷技术基于纳米低融化的效果,这是一种使能技术为两到三维纳米结构特征尺寸范围从几十纳米到6。圆片规模。方法解决了主要瓶颈(大规模的统一与nanopatterns金属催化剂)遇到metal-assisted化学腐蚀。也达到圆片规模、制服和可控的纳米结构和极高的纵横比。我们进一步证明优秀的均匀性和高性能合成设备的制造100 6的光电探测器。硅晶片。因此,我们的方法可以为下一代创造一个可行的路线,圆片规模,统一有序、可控的纳米加工,导致重大进展在各种应用程序中,如能量收获,量子,电子和光子设备。”
找到技术论文链接在这里。2022年1月出版。
Zhi-Jun赵,Sang-Ho Shin唱Yeon Lee Bongkwon儿子Yikai辽、Soonhyoung黄,全度妍Sohee Hyeokjoong Kang Munho金正日,Jun-Ho桢
ACS Nano 2022 16 (1), 378 - 385
DOI: 10.1021 / acsnano.1c06781
访问半导体工程的这里的技术论文库和发现更多的芯片行业学术论文。
留下一个回复