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下层EUV光刻技术的优化方法

通过布鲁尔科学- 7月21日,2021 -评论:0

光刻胶和下层结合为核心作用的EUVL模式。层将在未来非常薄,因为高数值孔径(NA)和紧球需要很薄层光刻堆栈。这个瘦会让photoresist-underlayer化学交互界面更加普遍。这些层之间的附着力会克服的关键模式c…»阅读更多

High-Temperature-Stable,自旋对碳材料High-Aspect-Ratio Gap-Fill应用程序

通过布鲁尔科学- 6月16日,2021 -评论:0

布鲁尔科技公司开发了一个类的小说,high-temperature-stable旋涂碳(SOC)的材料具有优良的加工性能。这些soc治愈在温和条件下和流动特性,使填充high-aspect-ratio通过紧密的方式。此外,这种新的soc具有显著的热稳定性,能生存温度高达550°C的智慧……»阅读更多

改善EUV Si Hardmask性能通过湿化学功能化

通过布鲁尔科学——5月20日,2021 -评论:0

在EUV光刻、旋涂硅hardmasks已经广泛使用不仅是腐蚀转移层,也是协助层增强抵抗的光刻性能。在这项研究中,我们将演示一种新颖的方式用旋涂硅hardmasks通过组合官能团通过溶胶-凝胶的方法。通过不同的浓度和类型功能g……»阅读更多

缓解和表征Hardmask硅材料缺陷

通过布鲁尔科学——3月17日,2021 -评论:0

从数字图书馆学报:在这项研究中,金属污染物,液体粒子计数和薄片上缺陷的Si - HMs监控和过滤去除率来确定滤波器的影响类型,孔隙大小、媒体形态,对过滤性能和清洁。5-nm聚四氟乙烯NTD2过滤器有专用表面处理用于此研究显示缺陷数量最少。作者:Vineet……»阅读更多

马朗戈尼有效,在一个双波纹Via-First方法

通过布鲁尔科学- 2月17日,2021 -评论:0

的主要挑战之一双波纹(DD) via-first过程的控制临界尺寸(CDs)光刻的战壕。光致抗蚀剂(PhR)厚度呈现变化通过数组的开放区域,导致CDs的变化:摆动的效果。DD via-first的整平过程报告。一个双层的解决方案用于对朱元璋……»阅读更多

改善EUV底层涂料Defectivity使用接入点过滤

通过布鲁尔科学——11月18日,2020 -评论:0

作者:爱文吴(Entegris公司-美国),Hareen Bayana (Entegris GmbH -德国),菲利普Foubert (imec -比利时),安德里亚·查柯和道格拉斯Guererro(布鲁尔科技有限公司-美国)。介绍努力利用不同的过滤参数,包括保留评级和膜材料,了解他们对EUV底层涂料防御……»阅读更多