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氟化学品在光刻制版和半导体加工中的基本用途综述


康奈尔大学的研究人员发表了一篇新的学术论文。“我们确定并描述了用于在光刻制版制造过程中生产先进半导体的含氟化学品的类别。讨论的主题包括使用的每和多氟烷基物质(PFAS)材料及其成功半导体制造的必要属性。»阅读更多

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