Nova METRION用例


几个用例,我们将探讨新星METRION®系统包括污染控制,过程偏移预防、反应器匹配和均匀性控制。这些用例的目标是检测污染物可以杀死设备,改善阻挡层和源/排水功能,维持沉积均匀性影响下游流程,并确保薄片……»阅读更多

粒子从EUV光掩模


这个技术论文题为“AFM-Based Hamaker常数测定与盲目提示重建”只是荷兰阿斯麦公司的研究人员发表的亚琛工业大学和AMO GmbH是一家。粒子的研究报告是真空AFM-based方法去除EUV光掩模。发现这里的技术论文。2022年8月出版。Ku, B。,凡德维特灵F。博尔顿,J。Stel, B。van de K……»阅读更多

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