制造业:7月20日


干扰EUV光刻大学开发了一个独立的干涉极端紫外线(EUV)光刻工具用于研发应用。这个系统,称为埃米尔(EUV Micro-interference光刻设备),主要用于加速EUV光阻和相关的晶片的发展过程。系统是不同的比ASML EUV光刻扫描仪,这是……»阅读更多

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