发现,预测EUV随机缺陷


一些厂商推出下一代检验系统和软件,定位有问题的芯片缺陷引起的在极端紫外线(EUV)光刻过程。每个缺陷检测技术包括各种权衡。但必须使用一个或多个他们的工厂。最终,这些所谓的stochastic-induced缺陷引起的EUV可以影响性能…»阅读更多

改善EUV底层涂料Defectivity使用接入点过滤


作者:爱文吴(Entegris公司-美国),Hareen Bayana (Entegris GmbH -德国),菲利普Foubert (imec -比利时),安德里亚·查柯和道格拉斯Guererro(布鲁尔科技有限公司-美国)。介绍努力利用不同的过滤参数,包括保留评级和膜材料,了解他们对EUV底层涂料防御……»阅读更多

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