高价格的小功能


半导体行业的推动高数值孔径是由NA和临界尺寸之间的关系。NA上升,CD下降:λ是波长和k1系数是一个过程。而0.55 NA曝光系统将提高分辨率,拉里•梅尔文Synopsys对此公司首席工程师指出,较小的特征与过程总是因为……»阅读更多

在工厂工具技术的下一个什么?


专家在餐桌上:半导体工程坐下来讨论极端紫外线(EUV)光刻和其他与Jerry Chen下一代工厂技术,全球业务发展制造业和工业主管Nvidia;计算产品的副总裁大卫•油炸林研究;营销副总裁Mark Shirey说,和应用程序在心理契约;和安琪Fuj……»阅读更多

为什么新的光刻胶技术是至关重要的


随着芯片制造商转向先进技术节点,他们面临的挑战是解决更好的特性。的一个主要障碍包括材料用于芯片设计转移到晶圆。准确地传输材料迅速达到了极限设计。让下一代设备扩展,引入了一个突破性技术:干燥的抵制。为了更好的现代人理解……»阅读更多

周评:制造、测试


学报学报先进光刻技术会议上,林的研究引入了新的干抵制极端紫外线(EUV)光刻技术。干抵制技术是一种新方法沉积和发展EUV抗拒。这是一个干沉积技术替代成分和机制。通过结合Lam的沉积和蚀刻过程专长与合作ASML…»阅读更多

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