现有的工具可以用于RISC-V,但他们可能不是最有效或高效。还有什么需要?
Gate-all-around将取代finFET,但它会产生一系列的挑战和未知。
学术界、业界伙伴关系斜坡来诱使大学生硬件工程。
地图在interposer-based热量流动设计工作正在进行,但要做得多。
高速度和低热量使这个技术至关重要,但它是极其复杂和人才是很难找到和火车。
光子学、可持续发展和人工智能芯片吸引投资;157家公司筹集了超过24亿美元。
做已经完成在过去只能带你走那么远,但RISC-V导致的某些方面验证从根本上重新思考。
找到问题根本原因的变化,受更好的数据和改进工具。
