7nm光刻选择

通过马克LaPedus- 2016年3月7日-评论

芯片制造商正在加紧生产16nm/14nm逻辑工艺，其中10nm工艺预计将在今年晚些时候投入早期生产。除非光刻技术取得重大突破，否则芯片制造商仍在使用今天的193nm浸没工艺和16/14nm和10nm的多重图案。现在，芯片制造商正专注于7nm光刻技术的选择。为此，他们希望结合使用两种技术…»了解更多

内部多波束电子束光刻

通过马克LaPedus- 2015年11月19日-评论

《半导体工程》采访了Multibeam公司的董事长David Lam，该公司是多光束电子束直写光刻工具的开发商。林也是一名风险投资家。他于1980年创立了Lam Research，但于1985年离职。以下是对话节选。SE:这些年来设备业务发生了怎样的变化?»了解更多

通过马克LaPedus- 2015年9月29日-评论

eBeam Initiative今天发布了其年度成员看法调查，一系列结果揭示了有关EUV、多光束和掩膜技术的一些令人惊讶的新数据。作为新调查结果的一部分，与去年的结果相比，在大批量生产中实施极紫外(EUV)光刻技术的乐观程度越来越高……»了解更多