考虑缺失缺陷抑制技术在EUV孔模式


这项研究集中在缺陷行为分析通过穿孔模式使用CD变体EUV光刻过程和腐蚀传输性能。而缺陷要求不那么严格的存储设备,逻辑器件必须没有缺陷。目前,来自过程或材料缺陷只能检测到自上而下的检查方法,然而,它是困难的…»阅读更多

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