High-NA EUV可能比看起来更亲密


High-NA EUV有望使扩展到埃水平,为芯片与更高的晶体管数量和一个全新的工具,材料,和系统架构。在最近有先进光刻技术会议上,马克·菲利普斯光刻硬件和应用解决方案的主管英特尔,重申公司的打算部署技术在高…»阅读更多

多模式EUV与High-NA EUV


铸造厂终于在生产与EUV光刻7海里,但芯片客户现在必须决定是否使用EUV-based实现他们的下一个设计多个模式5 nm / 3 nm或等待一个新的单井网EUV系统3 nm和超越。这个场景围绕ASML目前的极端紫外线(EUV)光刻工具(NXE: 3400 c)和一个全新的EUV系统……»阅读更多

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