面具供应链预备10纳米


随着半导体工业齿轮10 nm的逻辑节点现在可能在2017年下半年开始,光掩模供应链正准备应对相关的挑战,包括光掩模的复杂性急剧增加,写时间和数据量。10 nm节点需要更多的光掩模/掩码设置,打印的能力较小的和更复杂的功能,…»阅读更多

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