EUV在3nm及以下的不确定未来


几家晶圆代工厂已经将极紫外(EUV)光刻技术转移到7nm和5nm的生产中,但现在业界正在为3nm及以上技术的下一阶段做准备。在研发方面,该行业正在为下一个节点开发新的EUV扫描仪、掩模和电阻。3nm计划在2022年推出,然后在一两年后推出2nm。尽管如此,这将需要大量资金……»阅读更多

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