对薄膜的电阻率和发射率膜对EUV光刻


新技术从汉阳大学和德克萨斯大学达拉斯。抽象的“薄膜是一种薄膜结构,保护一个极端的紫外线(EUV)面具在曝光过程中污染。然而,其有限的透光率引发不必要的加热由于EUV光子的吸收。破裂的EUV薄膜可以避免通过改善其其他……»阅读更多

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