覆盖如何与EUV图案保持同步


覆盖计量工具提高精度,同时提供可接受的吞吐量,解决日益复杂的设备的竞争需求。在一场永无止境的竞争中,领先设备的产品覆盖公差正在迅速缩小。对于3nm一代(22nm金属间距)器件来说,它们都在个位数纳米范围内。新的覆盖目标,机器学习,和im…»阅读更多

光学叠加计量中的精度


作者:Barak Bringoltz, Tal Marciano, Tal Yaziv, Yaron DeLeeuw, Dana Klein, Yoel Feler, Ido Adam, Evgeni Gurevich, Noga Sella, Ze 'ev Lindenfeld, Tom Leviant, Lilach Saltoun, Eltsafon Ashwal, Dror Alumot和Yuval Lamhot, xeast Gao, James Manka, Bryan Chen和Mark Wagner。摘要本文讨论了工艺变化决定光学光学光栅叠加精度的机理。»阅读更多

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