一对一:Aaron Thean


《半导体工程》杂志与Imec工艺技术副总裁兼逻辑器件研发项目主任Aaron Thean讨论了工艺技术、晶体管趋势和其他话题。SE:芯片制造商正在加紧研发16nm/14nm逻辑节点,10nm和7nm也在研发中。目前10nm和7nm工艺的时间表是什么?希恩:10nm正在研制中。我们将看到r…»了解更多

双重模式:寄生虫提取的挑战和可能的解决方案


双重图案(DP)作为多图案技术中最简单的形式,目前受到了广泛的关注。对双重图案技术的需求是由当前光源和透镜可以解决的尺寸的物理限制以及部署下一代光刻的困难和延迟所驱动的……»了解更多

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