制造业资讯:10月5日


在最近的SPIE光掩膜技术+ EUV光刻会议上,日本高能加速器研究组织(KEK)发表了一篇论文,介绍了其为极紫外光刻(EUV)开发自由电子激光(FEL)存储环源功率单元的最新成果。KEK已经展示了一个概念验证的EUV-FEL,它已经在研发阶段。EUV-FEL……»了解更多

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