逆光刻技术:30年从概念到实际,全芯片的现实


发表在《微/ Nanopatterning,材料,和计量,2021年8月31日。阅读完整的技术论文(开放)。文摘在光刻技术,光学邻近和过程偏差/效果需要纠正达到最佳的晶片打印。努力纠正这些影响开始用一个简单的偏见,添加一个锤头在预防行结束缩短行结束。T…»阅读更多

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