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伊芙琳胡

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Evelyn Hu是IEEE生命院士和美国艺术与科学院院士。她是哈佛大学约翰·a·保尔森工程与应用科学学院应用物理和电气工程的Tarr-Coyne教授，并因在纳米尺度科学与工程方面的领导地位以及在半导体电子学和光子学交叉领域的开创性贡献而被授予2021年IEEE/RSE詹姆斯·克拉克·麦克斯韦奖章。她目前的研究涉及与光相互作用的III-V和iii -氮化物芯片。

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哪里的瑕疵会带来机遇
通过伊芙琳胡- 2021年6月7日-评论:0

人们很自然地认为，最高质量的设备是由最完美的材料(结晶、有序、化学计量)形成的。因此，这是具有讽刺意味的，也许是违反直觉的，特定种类的缺陷，如半导体材料中的空位(丢失的原子)，可以形成一个新的量子信息技术的基石。»阅读更多

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