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FinFET设备性能如何外延过程变化而受到影响


由Shih-Hao(杜松子酒)黄和陈于De需要晶体管规模更小尺寸继续按技术设计师,寄生电阻和电容的影响可以达到甚至超过晶体管性能的其他方面,如边缘电容或源漏电阻。设备的总电阻是由两个组成部分:内部再保险……»阅读更多

将流程模型与TCAD仿真…


新颖的半导体技术正在创造复杂的流程,需要支持制造业先进的3 d半导体结构。它可以帮助模型流程流,它们对小说的影响设备,之前身体制造。流程建模技术可以预测的3 d结构设备使用单位流程步骤的理解。一定……»阅读更多

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