高钠EUV光刻可能需要更大的光掩模的大小

通过杰夫Chappell——7月18日,2013 -评论:0

通过杰夫Chappell极端紫外线光刻技术(EUV)可能被用于试点生产几年后,它提出了一个问题:大光掩模的大小会行业需要他们,如果是这样,什么时候?虽然已经讨论了可能需要过渡到一个更大的面具的大小,退伍军人面具的业务可能会觉得我有似曾相识的感觉。回来……»阅读更多

商人光掩模制造商仍然相关

通过杰夫Chappell- 20,2013 -评论:0

杰夫·Chappell多年半导体行业的趋势光掩模和芯片制造商是剥离俘虏面具业务支持商人光掩模供应商。这反映了一个更大的趋势一直与许多公司远离垂直整合供应链,因此,铸造模型了。“这主要是由成本consideratio……»阅读更多

渗透设备经济学

通过杰夫Chappell——5月16日,2013 -评论:0

由杰夫Chappell现在,随着中国的崛起,作为一个制造业中心,无疑芯片行业中的每个人都应该听说过中国的诅咒,“愿你生活在有趣的时代。”It's practically cliché. The thing is, the next two industry cycles may indeed prove interesting for the used equipment market. At the moment, everyone is tired of interesting times, and those in ...»阅读更多