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基于gpu的计算光掩模制造
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我们已经达到临界点仿真面具数据准备
通过阿基》11月- 13,2014 -评论:0

半导体行业以来,mask-data准备面具(MDP)和验证(MV) shape-based:每个形状被视为一个实体本身,如果每个孤立的形状是正确的,面具是正确的。这种情况下独立是常规压裂的关键假设。然而,随着线/空间测量(L: S)低于50 nm, shape-ba……»阅读更多

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