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离子注入在在线SIMS测量中的应用


作者:Wei Ti Lee, Sarah Okada, Lawrence Rooney, Feng Zhang, Benjamin Hickey在半导体行业,离子注入过程已经扩展到广泛的应用领域,其剂量和能量跨越了几个数量级。离子注入是一个非常复杂的过程,有许多参数和因素会影响离子注入的性能。例如,阴影效果从高…»阅读更多

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