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布局与原理图检查(LVS)

器件和连接性之间的比较布局和原理图
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描述

布局与原理图(LVS)物理验证工具作为完整IC验证工具套件的成员,通过提供IC布局与原理图之间的器件和连接性比较,执行重要功能。LVS工具能够实现精确的电路验证,因为它能够测量整个芯片上的实际器件几何形状,从而完整地计算物理参数。测量得到的器件参数为对源原理图进行反向标注提供了信息,也为运行仿真提供了全面的数据。

LVS工具通常与寄生提取工具一起用于测量器件应力参数(特别是在40 nm及以下),进行电气规则检查,并进行交互式修正以减少错误调试时间。

LVS工具的性能改进是通过分层处理(即只处理一次重复的块)和硬件扩展(即将LVS作业划分到多个cpu上的能力)实现的。

与LVS工具相关联的图形环境可以提供设计修复建议和几何和电气违规位置的可视化指示,例如布局中的短路。交叉探测是指在物理布局和SPICE网络列表之间提供直接关联以帮助调试的能力。动态结果查看环境允许设计人员看到违规并在检测到违规时立即开始修复它们,而不是等到设计规则检查(DRC)/LVS运行完成。

可以使用自动扫描重复的、常见的设备模式的技术来增强分层方法,即使这些模式没有在设计数据库中明确定义。识别固有的重复,该技术引入或“注入”层次结构以简化设计并加快比较过程。

LVS工具还可以对典型BSIM3/4和PSP参数描述的标准设备进行自动设备识别和参数提取。当需要更复杂或独特的模型时,一些工具包括用户定义的选项。在40纳米及以下,代工厂定义的器件参数是其制造工艺所独有的。其中一些参数可能是多个晶体管之间关系的函数。

可以使用可编程电气规则检查器(ERC)增强LVS流程,该程序使用客户定义的电气规则检查来自动执行容易出错的手动检查。可编程的ERC功能可以识别根据用户定义连接的分组设备,并测量与已识别电路拓扑相关的几何数据。LVS和可编程ERC的结合可以用来发现单独LVS无法检测到的设计错误。

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