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>高na EUV使EUV掩模未来复杂化
简•威利斯
(所有的帖子)
简·威利斯是Calibra的独立顾问。她曾在Cadence, Synopsys和Hewlett-Packard等公司担任过各种高级职位。她拥有密苏里大学哥伦比亚分校的电气和计算机工程学士学位,以及斯坦福大学的工商管理硕士学位。
作者最新文章
高na EUV使EUV掩模的未来更加复杂
通过
简•威利斯
- 2022年11月17日-评论:0
eBeam Initiative在2022年进行的第11次年度灯具调查报告称,EUV推动了半导体掩模行业的增长,而专家小组在9月底与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中引用了转向高na EUV的一些复杂性。代表来自整个半导体生态系统的44家公司的行业名人…
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热爱戏剧和面具制作
通过
简•威利斯
- 2022年7月5日-评论:0
自13年前eBeam Initiative成立以来,Naoya Hayashi一直是我们的朋友和重要贡献者。我们只是他在DNP 45年的职业生涯中所接受和支持的众多兴趣之一。现在轮到我们拥抱他,感谢他在今年6月退休后,作为DNP的第一位研究员,追求他的下一个篇章。阿基富士山……
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面具景观的变化
通过
简•威利斯
- 2022年5月19日-意见:0
半导体掩模在经历了多年相对较小的变化之后,在过去几年中经历了一些重大的技术变化。多束掩模写入器和极紫外(EUV)光刻等新技术是进入大批量生产的重大突破。与这些技术相关的一个新趋势是在掩模上使用曲线特征。阿基…
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今天可以制造曲线掩模
通过
简•威利斯
- 2022年4月21日-意见:0
多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处,但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍,如图1所示。然而,只有4%的人认为……
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正确的项目是采用深度学习掩模的关键
通过
简•威利斯
- 2022年2月17日-评论:0
深度学习(DL)已经成为许多公司成功不可或缺的一部分。在半导体制造方面已经有许多论文和一些成功的报道,但只有22%的参与2021年eBeam Initiative luminaries调查的灯具认为DL是明年掩模制造的竞争优势,如图1所示。看着这张图表,这些名人认为……
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发光器件看到掩模编写器的增长机会
通过
简•威利斯
- 2022年1月20日-意见:0
多波束掩模编写器(mbmw)是掩模编写器领域的新成员,因此增长预测并不令人惊讶。事实上,eBeam Initiative调查的90%的行业知名人士认为,未来三年MBMW的新购买量将会增加,如图1所示。根据这张图表,行业知名人士预测,新型掩模编写器的销量将在…
»阅读更多
为什么EUV掩模更昂贵的观点
通过
简•威利斯
- 2021年12月20日-意见:0
每片使用EUV光刻的掩模更少,但每个EUV掩模更贵。鉴于此,7月份接受调查的大多数行业知名人士(74%)表示,EUV掩模将有助于2021年掩模收入的增长,如图1所示,这也就不足为奇了。在一个20分钟的视频中,专家小组分享了他们对EUV照片驱动因素的看法…
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半导体掩模收入预计将在2021年增加
通过
简•威利斯
- 2021年11月18日-评论:0
7月份接受调查的大多数行业知名人士(72%)预测2021年掩模收入将增加,如图1所示。SEMI还预测,收入将从2020年的44亿美元增长到2021年的48亿美元,增长约9%。在一段12分钟的视频中,专家小组分享了他们对增长趋势背后的观点,大流行如何影响掩模行业,以及它与…
»阅读更多
曲线设计对晶圆的好处
通过
简•威利斯
- 2021年10月21日-评论:0
在本系列博客中,我们一直关注曲线掩模的优点、推动因素和挑战。这就引出了D2S首席执行官藤村昭(Aki Fujimura)向杰出人士小组提出的一个明显的问题。如果前沿的掩模车间已经准备好通过曲线ILT、多波束掩模写入器和掩模设计链实现掩模上的曲线形状,那么我们是否可以拥有曲线目标形状……
»阅读更多
优化曲线遮罩的VSB射击数
通过
简•威利斯
- 2021年8月19日-评论:0
使用可变形状电子束(VSB)写入器增加的掩模写入时间一直是反光刻技术(ILT)采用的障碍,而不仅仅局限于热点的使用。本视频博客的第二部分深入探讨了这一挑战。在这个五分钟的面板视频与行业名人,Ezequiel Russell描述了他的公司之间的合作研究…
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