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准备High-NA EUV


半导体行业正在开发high-NA EUV全速前进,但抚养下一代光刻系统和相关基础设施仍然是一个巨大的和昂贵的任务。ASML发展其大数值孔径(high-NA) EUV光刻线有一段时间了。基本上,high-NA EUV扫描仪是今天的EUV光刻系统的后续……»阅读更多

制造业:10月5日


EUV光刻存储环在最近有光掩模技术+ EUV光刻技术会议上,日本的高能加速器研究组织(KEK)发表了一篇论文在其最新的努力建立一个自由电子激光(恶魔)存储环源动力装置极端紫外线光刻技术(EUV)。KEK演示了一个概念验证EUV-FEL,一直在研发。EUV-FEL……»阅读更多

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