光掩模短缺增长成熟的节点


成熟的节点对芯片需求激增,加上老化photomask-making设备在这些几何图形,引起重大关注整个供应链。这些问题最近才开始浮出水面,但他们为光掩模尤其令人担忧,这对芯片生产是至关重要的。为光掩模制造能力尤其紧28 nm及以上,推高了…»阅读更多

业务、技术挑战增加光掩模


专家们表:半导体工程坐下来讨论光学和EUV光掩模问题,以及面具业务所面临的挑战,与直Hayashi DNP研究员;彼得•巴克MPC &掩模缺陷管理主任西门子数字行业软件;资深的技术战略总监布莱恩Kasprowicz球兰;和阿基》d2的首席执行官。f…»阅读更多

为什么面具空白至关重要


球兰主席Geoff Akiki LSI球兰集团,坐下来与半导体工程讨论光学和极端紫外线(EUV)光刻以及面具空白。以下是摘录的讨论。SE:面具空白组件作为基础或衬底光掩模。他们为什么重要?Akiki:如果你看看球兰,我们一直定位为…»阅读更多

面具/成熟的光刻技术问题节点


半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模问题,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;哈里·莱文森HJL光刻技术负责人;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。下面摘录的对话……»阅读更多

EUV在下面3 nm和不确定的未来


几个铸造厂已经极端紫外线(EUV)光刻投入生产在7和5 nm,但是现在这个行业正在准备下一阶段的技术3 nm和超越。在研发,行业开发新EUV扫描仪,面具和抵制为下一个节点。3 nm定于2022年,其次是2海里以后一年或两年。尽管如此,它需要巨大的资金……»阅读更多

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