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为什么面具空白至关重要


球兰主席Geoff Akiki LSI球兰集团,坐下来与半导体工程讨论光学和极端紫外线(EUV)光刻以及面具空白。以下是摘录的讨论。SE:面具空白组件作为基础或衬底光掩模。他们为什么重要?Akiki:如果你看看球兰,我们一直定位为…»阅读更多

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