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2022年调查:灯具报告EUV对掩模趋势的积极影响


eBeam Initiatives从2022年7月开始的第11次年度灯具调查显示•EUV被视为对掩模收入的积极影响•EUV仍然是购买多波束掩模编码器的首要原因•今年多波束掩模编码器可用性问题较少的情况下,对制造曲线掩模的能力的信心仍然很高。»阅读更多

缩放,高级包装,或两者兼而有之


芯片制造商在领先领域面临越来越多的挑战和权衡,在这一领域,工艺缩减成本已经过高,而且还在不断上升。虽然理论上可以将数字逻辑扩展到10埃(1nm)以下,但在这个节点上开发平面SoC的可能性似乎越来越小。在一个听过公关的行业里,这并不令人震惊。»阅读更多

为高na EUV做准备


半导体行业正在全速发展高na EUV,但提出这种下一代光刻系统和相关基础设施仍然是一项艰巨而昂贵的任务。阿斯麦公司开发其高数值孔径(高na) EUV光刻线已有一段时间了。基本上,高na EUV扫描仪是当今EUV光刻系统的后续…»阅读更多

开发一种新的曲线数据格式


曲线掩模产生的数据量可能会影响掩模生产的周转时间(TAT),从而影响曲线掩模的采用。在之前的一篇关于曲线掩模的博客中,我们的专家小组在视频讨论中讨论了一些可能的解决方案。在这第7个视频,面板看一些想法,以定义一个新的曲线数据格式,以减少文件大小。阿基》……»阅读更多

曲线掩模的探索


半导体行业在先进曲线掩模的开发方面正在取得显著进展,这项技术对最先进节点的芯片设计以及更快、更便宜地制造这些芯片的能力具有广泛的影响。现在的问题是,这项技术何时才能超越其以利基为导向的地位,进入大批量生产。因为你们…»阅读更多

人工智能、芯片和面具的下一步是什么


D2S首席执行官Aki Fujimura接受了Semiconductor Engineering的采访,谈论了AI和摩尔定律、光刻和掩模技术。以下是那次谈话的节选。SE:在eBeam Initiative最近的照明调查中,参与者对掩模市场的前景有一些有趣的观察。这些观察结果是什么?Fujimur……»阅读更多

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